溅射氧化铌靶材 氧化铌镀膜靶材 光学用氧化铌靶

 靶材按材料种类型分，可分为金属靶材、合金靶材、化合物靶材。不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。氧化物薄膜材料在液晶面板、触摸屏、薄膜太阳能电池、发光二极管等产业上获得了广泛应用。目前国内氧化物薄膜材料的制备方法和技术有很多，其中主要的方法有脉冲激光沉积、磁控溅射、电子束蒸发、分子束外延等物理方法。

由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，将铁磁性靶材的厚度减薄是解决磁控溅射铁磁材料靶材的常见方法。如果铁磁性靶材足够薄，则其不能完全屏蔽磁场，一部分磁通将靶材饱和。其余的磁通将从靶材表面通过。